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Layertec Ti:藍(lán)寶石激光

簡(jiǎn)要描述:Layertec Ti:藍(lán)寶石激光
Ti:藍(lán)寶石激光器的三次諧波提供fs-紫外范圍(?250 – 330nm)內(nèi)的脈沖。這些在光譜學(xué)以及材料科學(xué)中提供了多種應(yīng)用。必須針對(duì)高反射率和低色散優(yōu)化這些非常特殊應(yīng)用的光學(xué)器件。

  • 產(chǎn)品品牌:其他品牌
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 更新時(shí)間:2021-05-07
  • 訪  問(wèn)  量:1387

詳細(xì)介紹

品牌其他品牌價(jià)格區(qū)間面議
組件類別光學(xué)元件應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合

Layertec Ti:藍(lán)寶石激光

Ti:藍(lán)寶石激光的三次諧波的成分

Ti:藍(lán)寶石激光器的三次諧波提供fs-紫外范圍(?250 – 330nm)內(nèi)的脈沖。這些在光譜學(xué)以及材料科學(xué)中提供了多種應(yīng)用。必須針對(duì)高反射率和低色散優(yōu)化這些非常特殊應(yīng)用的光學(xué)器件。

雙波長(zhǎng)鏡


圖1:反射率-(a)和GDD-fs的光譜(b,c)-270nm + 405nm的優(yōu)化轉(zhuǎn)向鏡

三次諧波和地波的分離器


圖2:HR 270nm + HT 405 + 810nm(45°)分離器的反射率-(a)和GDD-光譜(b)


圖3:三次諧波和四次諧波的隔板的反射光譜:HRr(45°,266nm)> 98%+ Rr(45°,200nm)<10%

a)為低雜散損耗而優(yōu)化的氧化物涂層(背面未涂層)

b)氟化物涂層,具有高激光誘導(dǎo)的損傷閾值和200 nm的高透射率(背面未涂層)

請(qǐng)注意,氧化鋁是DUV氧化物涂層的高折射率材料,在<215nm的波長(zhǎng)下表現(xiàn)出吸收損耗,而氟化物涂層在低至140nm的波長(zhǎng)下無(wú)吸收。

第三諧波的寬帶分離器

紫外光中具有高反射率和低GDD的分離器以及VIS和NIR中的高透射率的分離器仍在研究中。在下文中,我們提出一些滿足這些要求的濺射涂層。


圖4:寬帶分離器的反射率(a)和GDD(b)光譜在Ti:藍(lán)寶石激光器三次諧波的整個(gè)波長(zhǎng)范圍內(nèi)對(duì)s偏振光具有高反射率,并且在VIS中對(duì)p偏振光具有高透射率 和近紅外:HRs(45°,250 – 330nm)> 95%+ Rp(45°,440 – 1000nm)<3%


圖5:寬帶分離器的反射率(a)和GDD(b)光譜在Ti:藍(lán)寶石激光器三次諧波的整個(gè)波長(zhǎng)范圍內(nèi)具有高反射率的法向入射,并且在VIS和NIR:HR(0° ,250 – 340nm)> 95%+ R(0°,600 – 900nm)<10%

 

Ti:藍(lán)寶石激光的高次諧波成分

Ti:藍(lán)寶石激光器的第四和第五諧波在DUV / VUV范圍內(nèi)提供fs脈沖。這些在光譜學(xué)以及材料科學(xué)中提供了多種應(yīng)用。這些最特殊應(yīng)用的光學(xué)器件必須針對(duì)高反射率和低色散進(jìn)行優(yōu)化。

 

第四諧波的轉(zhuǎn)向鏡和分離器


圖1:200nm(AOI = 45°)的轉(zhuǎn)向鏡的反射率(測(cè)得,a)和GDD-光譜(計(jì)算出,b)


圖2:較長(zhǎng)波長(zhǎng)諧波和地面波長(zhǎng)(AOI = 45°)的四次諧波的分離器的反射率(a)和GDD-光譜(b)

第五諧波的組成


圖3:160nm旋轉(zhuǎn)鏡的反射率(測(cè)量,a)和GDD光譜(計(jì)算,b)(AOI = 45°)

 

特殊組件


圖4:在小波長(zhǎng)下具有高反射率的隔膜的反射率(a)和GDD-光譜(b)

Ti:藍(lán)寶石激光器的三次諧波和四次諧波的可見(jiàn)光范圍和高透射率:HRs(45°,420nm)> 99%+ Rp(45°,200 + 270nm)<3%

飛秒紫外線涂層的性能

Ø根據(jù)地波的波長(zhǎng)范圍,第68–71頁(yè)數(shù)據(jù)表中描述的涂層可用于以下中心波長(zhǎng):

o第三諧波:250 - 330nm

o第四諧波:180-250nm

o第五諧波:150?180nm

Ø涂層的帶寬見(jiàn)下表

Ø涂層針對(duì)寬反射帶,高反射率和低GDD進(jìn)行了優(yōu)化

Ø取決于波長(zhǎng)范圍的不同基材和涂層材料; 220 nm及以下的組件由CaF2基板上的熒光層系統(tǒng)組成

 

高反射率和低GDD范圍的帶寬

Component

Wavelength range

P-polarization

S-polarization

R > 99%, |GDD| < 20fs2

R > 99.5%, |GDD| < 20fs2

Turning mirror 3rdharmonic

UV

30 nm

50 nm

Separator 3rd
harmonic

UV

30 nm

50 nm

Dual wavelength turning mirror

UV

15 nm

26 nm

UV /VIS

34 nm

72 nm

Turning mirror 4thharmonic

UV

5 nm (R > 93%)

15 nm (R > 97%)

Turning mirror 5thharmonic

UV

4 nm (R > 90%)

12 nm (R > 97%)

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